斯菩銳雙向磨粒流體拋光機機原理使高分子體磨料往復擠壓運動的方式（猶如人工拉布條往復運動），其工作壓力可以自由調節， 在PLC觸摸屏上可以選擇拋光參數進行不同的行程和不同的循環次數。此種加工使高分子軟體磨料流經要拋光處理的內孔表面進行去毛邊、倒角、以及所謂的鏡面拋光等加工工藝。 斯菩銳單向磨粒流體拋光機工作原理僅使高分子軟體磨料在推力作用下朝一個方向流經工件內孔，單向磨粒流體拋光機可依PLC計算機控制，達到自動、經濟、高效拋光,其拋光痕跡和工件使用的方向一致,因此具有同方向規格性加工特點。 隨著磨粒流拋光